一（yī）、行（háng）業簡介
        半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業（yè）、大規模、超大規模集成電路需用大量（liàng）的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬（kuān）越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子（zǐ）級水質技術分為五個行（háng）業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子（zǐ）、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化（huà）工、鋼鐵、玻璃（lí）等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝（zhuāng）品等用純水。
3、單（dān）晶矽、半導體晶片切割製造（zào）、半（bàn）導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板（bǎn）、光通信、電腦元件、電容器潔淨（jìng）產品及各種元器件等生產工藝用純（chún）水。
三、工藝簡介（jiè）
1、係統模塊（kuài）化設計，共分四部分：預（yù）處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸（xuán）浮物、濁度、色度、膠體以及部（bù）分（fèn）有機物，保證產水（shuǐ）符合反滲透係（xì）統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中（zhōng）溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保（bǎo）證產水符合（hé）EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類（lèi）物質，產水（shuǐ）達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來（lái）將合格（gé）水輸送至用水點，輸送過程中（zhōng）對EDI產生進行最後的離子交換脫（tuō）鹽，使（shǐ）得產水達到（dào）電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行（háng）集中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝方便（biàn）快捷，整體美觀。
2、整套係統實現（xiàn）全自動化運行（háng），並（bìng）且手動與自動自由（yóu）切換。
3、設備（bèi）產水水（shuǐ）質穩定，運行連續穩定。
4、係統工（gōng）藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係統（tǒng）回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反（fǎn）滲透（tòu）≥75%
        二級反（fǎn）滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設（shè）備（bèi）產水符合《電子超純水國家標準（zhǔn）》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指（zhǐ）標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。