汙染物質和清洗藥品 汙染物 常（cháng）規化學清洗 增強化學清洗 碳酸鈣結垢 2.0wt%檸檬酸（suān），pH4.0 （用氨水體調節（jiē）pH值） HCl，pH2.5 硫酸鈣、硫酸（suān）鋇、 硫酸鍶結垢（gòu） 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） HCl，pH2.5 金屬氧化物、 金屬（shǔ）氫氧（yǎng）化物 2.0wt%檸（níng）檬酸，pH4.0 （用氨水體調節pH值） 1.0wt%的亞硫酸（suān）氫鈉，pH11.5 （Fe、Mn采用0.2wt%的草酸（suān），pH2） 無機（jī）膠體汙染 2.0wt%檸檬酸，pH4.0 （用氨水體調節pH值） HCl，pH2.5 無機有機 混（hún）合（hé）膠體汙染 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 矽 無 0.1wt%NaOH，pH11.5 生物（wù）汙染 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 2.0wt%STPP和0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 溶解有機汙染物 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA（pH10） 2.0wt%STPP和0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS，pH11.5 注：HCl——鹽酸； STPP——三聚磷（lín）酸（suān）鈉； Na-EDTA——乙二胺四乙酸鈉； NaOH——氫氧化鈉； SDS——十二烷（wán）基磺酸鈉； Na-DDBS——十二烷基笨磺酸鈉（nà）。